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微弧氧化主要影响因素

新闻来源:http://www.weihuyanghua.net    发布时间:2015/9/4 11:12:47     点击数:    标签:
微弧氧化主要影响因素如下:

  1、工件材质及表面状态

  (1)微弧氧化对铝材要求不高,不管是含铜或是含硅的难以阳极氧化铝合金,均可用于微弧氧化,且能得到理想膜层。

  (2)表面状态一般不需要经过抛光处理,对于粗糙的表面,经过微笑弧氧化,可修复的平整光滑,而对于粗糙度低(即光滑)的表面,刚会增加粗糙度。

  2、液体成分

  电解液成分是得到合格膜层的关键因素。微弧氧化液一般选用含有一定金属或非金属氧化物碱性盐溶液,如硅酸盐、磷酸盐、硼酸盐等。在相同的微弧电解电压下,电解质浓度越大,成膜速度就越快,溶液温度上升越慢,反之,成膜速度较慢,溶液温度上升较快。

  3、温度

  微弧氧化与阳极氧化不同,所需温度范围较宽。一般为10-90度。温度越高,成膜越快,但粗糙度也增加,且温度高,会形成水气,一般建议在20-60度。由于微弧氧化以热能形式释放,所以液体温度上升较快,微弧氧化过程须配备容量较大的热交换制冷系统以控制槽液温度。

  4、时间

  微弧氧化时间一般控制在10~60 min。氧化时间越长,膜的致密越好,但其粗糙度也增加。

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